BAO Mask Avenger是一款好用的AE的高級遮罩腳本。這款軟件支持控制Mask(遮罩)的頂點(diǎn)及切線。支持為頂點(diǎn)添加3D模式(Z軸)，支持對頂點(diǎn)添加表達(dá)式控制，感興趣的朋友不要錯(cuò)過了。

軟件說明

BAO Mask Avenger是一款A(yù)E的高級遮罩腳本，這款腳本可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點(diǎn)，同時(shí)在三維空間做路徑動(dòng)畫。

功能特色

拉姆預(yù)覽保護(hù)。以前版本的最大問題是Ram預(yù)覽無效通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點(diǎn)。3D面具。 Mask Avenger現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空圖層和表達(dá)式。然后更快地計(jì)算掩模，并簡化表達(dá)式寫入。背景烘焙。當(dāng)需要修改蒙版時(shí)，蒙版復(fù)仇者會立即對其進(jìn)行轉(zhuǎn)換當(dāng)前時(shí)間，并在后臺烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作而面具復(fù)仇者正在忙著烘焙。這取代了«Dynamic»和«bake»模式。更好地塑造層兼容性。與“動(dòng)態(tài)”模式相關(guān)的錯(cuò)誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。工作區(qū)和圖層的持續(xù)時(shí)間不再影響Mask Avenger的計(jì)算速度。當(dāng)然，烘焙100,000個(gè)關(guān)鍵幀需要超過10個(gè)，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作而它正在烘烤。不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運(yùn)行速度更快。面具預(yù)覽。 Mask avenger 2.0有一個(gè)預(yù)覽系統(tǒng)，可以動(dòng)態(tài)地顯示它們之前的變化適用于面具。這可以避免在表達(dá)式，其他圖層或相機(jī)修改蒙版時(shí)出現(xiàn)延遲。

蒙版控制說明

使用After Effects中的本機(jī)插件單獨(dú)控制蒙版頂點(diǎn)(和切線)!

每個(gè)頂點(diǎn)都由一個(gè)點(diǎn)參數(shù)單獨(dú)驅(qū)動(dòng)，具有您可以預(yù)期的所有功能：

關(guān)鍵幀，緩動(dòng)，表達(dá)式和3D空間。

您可以選擇僅使用頂點(diǎn)或完全控制切線。

集成腳本將幫助您使用表達(dá)式，并允許您將2D蒙版轉(zhuǎn)換為3D蒙版。

通過簡單的拾取 - 鞭子表達(dá)式將掩碼頂點(diǎn)鏈接到跟蹤器點(diǎn)。

使用“烘焙”。 模式以關(guān)鍵幀你的面具與沒有面具復(fù)仇者的用戶分享你的項(xiàng)目。

Mask Avenger是一個(gè)原生的After Effects插件。